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SOURCE APPLICATION
  - ¹Ú¸· ÁõÂø¿ë Precursor ´Â MOCVD, ALD °øÁ¤¿¡ »ç¿ëµÇ´Â Ư¼ö È­ÇÐÁ¦Ç°
- ¹ÝµµÃ¼¿ë : TEOS, TEB, TEPO µîÀÇ ´ë·® »ý»êÇÏ´Â Á¦Ç°°ú ZrO2, TiN, Al2O3 µî
   
MemoryÀÇ ÇÙ½É ºÎºÐÀ» ÀÌ·ç´Â Á¦Ç°
  - LED¿ë : TMG, TEG, TMI, TEI, TMA µî III-V Á· È­ÇÕ¹° ¹ÝµµÃ¼ ÁõÂøÀ» À§ÇÑ Á¦Ç°
 
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